Vertaling van "Faisceau ionique " (Frans → Engels) :

TERMINOLOGIE

faisceau ionique léger
light ion beam

faisceau ionique
ion beam

lithographie par faisceau d'ions focalisé | lithographie par faisceau d'ions focalisés | lithographie par faisceau ionique focalisé | lithographie à faisceau d'ions focalisé | lithographie à faisceau d'ions focalisés | lithographie à faisceau ionique focalisé
focused ion beam lithography | FIBL | FIB lithography

faisceau d'ions focalisé | faisceau d'ions focalisés | faisceau ionique focalisé
focused ion beam | FIB

dépôt par faisceau ionique
ion beam cluster

dépôt assisté par faisceau ionique
ion beam assisted deposition

lithographie par faisceau ionique
ion beam lithography

faisceau électronique ionique
electron ion beam

attaque par faisceau d'ion [ gravure ionique ]
ion beam etching

surfactant non ionique
Non-ionic surfactant

IN-CONTEXT TRANSLATIONS

Machines-outils travaillant par enlèvement de toute matière et opérant par laser ou autre faisceau de lumière ou de photons, par ultrasons, par électro-érosion, par procédés électrochimiques, par faisceaux d'électrons, par faisceaux ioniques ou par jet de plasma; machines à découper par jet d'eau
Machine tools for working any material by removal of material, by laser or other light or photon beam, ultrasonic, electrodischarge, electrochemical, electron beam, ionic-beam or plasma arc processes; water-jet cutting machines

ex 8486 | – Machines-outils travaillant par enlèvement de toute matière et opérant par laser ou autre faisceau de lumière ou de photons, par ultrasons, par électro-érosion, par procédés électrochimiques, par faisceaux d’électrons, par faisceaux ioniques ou par jet de plasma | Fabrication dans laquelle la valeur de toutes les matières utilisées ne doit pas excéder 40 % du prix départ usine du produit | |
ex 8486 | – Machine tools for working any material by removal of material, by laser or other light or photon beam, ultrasonic, electrodischarge, electrochemical, electron beam, ionic-beam or plasma arc processes | Manufacture in which the value of all the materials used does not exceed 40 % of the ex-works price of the product | |

2. équipements spécialement conçus pour la production de masques ou le traitement de dispositifs semi-conducteurs, utilisant un faisceau électronique, un faisceau ionique ou un faisceau "laser" avec focalisation et balayage du faisceau, présentant l'une des caractéristiques suivantes:
2. Equipment specially designed for mask making or semiconductor device processing using deflected focused electron beam, ion beam or "laser" beam, having any of the following:

1B226 Séparateurs électromagnétiques d'isotopes, conçus pour ou équipés de sources ioniques uniques ou multiples capables de produire un courant total de faisceau ionique de 50 mA ou plus.
1B226 Electromagnetic isotope separators designed for, or equipped with, single or multiple ion sources capable of providing a total ion beam current of 50 mA or greater.

b. équipements de production à "commande par programme enregistré" pour l'implantation ionique, ayant des courants du faisceau de 5 mA ou plus;
b". Stored programme controlled" ion implantation production equipment having beam currents of 5 mA or more;

Cela comprend les procédés dans lesquels l'implantation ionique est effectuée en même temps que le dépôt en phase vapeur par procédé physique par faisceau d'électrons ou le dépôt par pulvérisation cathodique.
This includes processes in which ion implantation is performed simultaneously with electron beam physical vapour deposition or sputter deposition.