(a) photoresists or anti reflective coatings for photolithography processes until ., provided that they are used in controlled closed systems in accordance with Commission Directive 2001/59/EC andwhere the concentration of PFOS released into the environment and the workplace is less than 1µg per kg of the PFOS used in the system.
(a) lichtgevoelige of antireflecterende coatings voor fotolithografische procédés tot ., mits ze worden gebruikt in gecontroleerde gesloten systemen overeenkomstig richtlijn van de Commissie 2001/59/EG en mits de concentratie van perfluoroctaansulfonaten die vrijkomen in het milieu en op de werkplek minder bedraagt dan 1µg per kg van de in het systeem gebruikte perfluoroctaansulfonaten.
