Vertaling van "lithografie " (Duits → Nederlands) :

TERMINOLOGIE

Lithografie
lithografie

Lithografie | Lithographie
lithografie

IN-CONTEXT TRANSLATIONS

18. Blei als Aktivator im Leuchtstoffpulver (davon Massenanteil von Blei von 1 % oder weniger) von Gasentladungslampen bei Verwendung als Bräunungslampen mit Leuchtstoffen wie Bariumsilikat (BaSi2O5:Pb) oder Verwendung als Speziallampen für Reprografie auf Basis des Lichtpausverfahrens, Lithografie, Insektenfallen, fotochemische und Belichtungsprozesse mit Leuchtstoffen wie Magnesiumsilikat ((Sr,Ba)2MgSi2O7:Pb).
18. Lood als activator in het fluorescentiepoeder (1 gewichtsprocent of minder) van gasontladingslampen bij gebruik als bruiningslampen met fosforen als BSP (BaSi2O5:Pb), alsook bij gebruik als speciale lampen voor diazo-drukreprografie, lithografie, insectenvallen, fotochemische en hardingsprocessen waarbij fosforen als SMS ((Sr,Ba)2MgSi2O7:Pb) worden toegepast.

Im Mittelpunkt der Forschungsarbeiten werden folgende Themen stehen: eine Vielzahl unterschiedlicher fortgeschrittener Fertigungstechniken im Nanomaßstab (auf die Lithografie oder die Mikroskopie gestützte Techniken); revolutionär neue Techniken, Verfahren oder Instrumente, die die selbstorganisierenden Eigenschaften der Materie nutzen, und Entwicklung von Maschinen im Nanomaßstab.
Het accent bij het onderzoek zal komen te liggen op uiteenlopende geavanceerde technieken voor vervaardiging op nanoschaal (met behulp van lithografie of microscopie); doorbraaktechnologieën, -methodologieën en -instrumenten waarbij de zelfassemblerende eigenschappen van de materie worden benut en die voor de ontwikkeling van nanoschaalmachines worden gebruikt.

Blei als Aktivator im Leuchtstoffpulver (davon Massenanteil von Blei von 1 % oder weniger) von Gasentladungslampen bei Verwendung als Bräunungslampen mit Leuchtstoffen wie Bariumsilikat (BaSiO:Pb) oder Verwendung als Speziallampen für Reprografie auf Basis des Lichtpausverfahrens, Lithografie, Insektenfallen, fotochemische und Belichtungsprozesse mit Leuchtstoffen wie Magnesiumsilikat ((Sr,Ba)MgSiO:Pb).
Lood als activator in het fluorescentiepoeder (1 gewichtsprocent of minder) van gasontladingslampen bij gebruik als bruiningslampen met fosforen als BSP (BaSiO:Pb), alsook bij gebruik als speciale lampen voor diazo-drukreprografie, lithografie, insectenvallen, fotochemische en hardingsprocessen waarbij fosforen als SMS ((Sr,Ba)MgSiO:Pb) worden toegepast.

Lithografie ist jene Phase der Chipherstellung, bei der photoresistente Materialien dem Licht ausgesetzt und so ultrafeine elektronische Bauteile gefertigt werden.
Lithografie betreft dat gedeelte van de chipsproductie waarbij ultrafijne elektronische elementen worden gecreëerd door de belichting van lichtstraalgevoelige materialen.

Ein 'Simulator der lithografischen Bearbeitung' ist ein "Software"-Paket für die Entwurfsphase, bei dem die Schrittfolge in Bezug auf die Lithografie, das Ätzen und die Abscheidung festgelegt werden, um die Maskenmuster in die spezifischen topografischen Muster für die Leiterbahnen, dielektrischen Werkstoffe oder Halbleiterwerkstoffe umzusetzen.
Een 'lithografische processimulator' is een "programmatuur"-pakket dat in de ontwerpfase wordt gebruikt voor het bepalen van de opeenvolgende lithografische, ets- en bekledingstrappen voor het omzetten van maskerpatronen in specifieke topografische patronen in geleiders en diëlektrische of halfgeleidermaterialen.

a) Positiv-Fotoresists, entwickelt für die Halbleiter-Lithografie, besonders eingestellt (optimiert) für den Einsatz bei Wellenlängen kleiner als 350 nm;
a. positieve «resists» ontworpen voor halfgeleiderlithografie, die optimaal geschikt zijn gemaakt voor gebruik bij golflengten van minder dan 350 nm;

Für Eximer-Laser, besonders konstruiert für Lithografie-Ausrüstung: Siehe Nummer 3B001.
Voor excimeer-'lasers' die speciaal zijn ontworpen voor lithografische apparatuur, zie 3B001.

Mit dem EXTATIC-Projekt sollen die Systemaspekte der extremen Ultraviolettlithografie (EUV) untersucht werden, um den Nachweis erbringen zu können, dass die EUV-Lithografie die beste Technologie für die künftige Herstellung integrierter Schaltkreise ist.
De doelstelling van het EXTATIC-project is de bestudering van de systeemaspecten van de extreem ultraviolet (EUV) lithografie en aan te tonen dat EUV-lithografie bij uitstek geschikt is voor de toekomstige productie van geïntegreerde circuits.

Ein "Simulator der lithografischen Bearbeitung" ist ein "Software"-Paket für die Entwurfsphase, bei dem die Schrittfolge in Bezug auf die Lithografie, das Ätzen und die Abscheidung festgelegt werden, um die Maskenmuster in die spezifischen topografischen Muster für die Leiterbahnen, dielektrischen Werkstoffe oder Halbleiterwerkstoffe umzusetzen.
Een "lithografische processimulator" is een "programmatuur"-pakket dat in de ontwerpfase wordt gebruikt voor het bepalen van de opeenvolgende lithografische, ets- en bekledingstrappen voor het omzetten van maskerpatronen in specifieke topografische patronen in geleiders en diëlektrische of halfgeleidermaterialen.