Mit dem EXTATIC-Projekt sollen die Systemaspekte der extremen Ultraviolettlithografie (EUV) untersucht werden, um den Nachweis erbringen zu können, dass die EUV-Lithografie die beste Technologie für die künftige Herstellung integrierter Schaltkreise ist.
De doelstelling van het EXTATIC-project is de bestudering van de systeemaspecten van de extreem ultraviolet (EUV) lithografie en aan te tonen dat EUV-lithografie bij uitstek geschikt is voor de toekomstige productie van geïntegreerde circuits.
