Traduction de «Kathodenzerstäubung » (Allemand → Néerlandais) :

TERMINOLOGIE

Kathodenzerstäubung | Sputtern | Sputterverfahren | Sputter-Verfahren | Zerstäubung | Zerstäubung durch Ionenbeschuss
kathodverstuiving | sputtering

Kathodenzerstäubung durch Bogenentladung
boogopdampen

Maschine zur Kathodenzerstäubung
machine voor kathodische verstuiving

TRADUCTIONS EN CONTEXTE

Nummer 2B005 erfasst nicht Ausrüstung für chemische Beschichtung aus der Gasphase, Bogenentladungs-Kathodenzerstäubungs-Beschichtung, Kathodenzerstäubungs-Beschichtung, Ionenplattierung oder Ionenimplantation, besonders konstruiert für Schneidwerkzeuge oder für Werkzeuge zur spanenden Bearbeitung.
2B005 is niet van toepassing op apparatuur voor chemische afzetting uit de dampfase, voor boogverdamping, sputteren, «ion-plating», of ionenimplantatie die speciaal is ontworpen voor snij- of werktuigmachines.

e) "speicherprogrammierbare" Herstellungsausrüstung für die Kathodenzerstäubungs-(Sputter-)Beschichtung, geeignet für Stromdichten von 0,1 mA/mm2 oder höher bei einer Beschichtungsrate größer/gleich 15 µm/h;
e". met opgeslagen programma bestuurde" productieapparatuur voor sputteren, geschikt voor een stroomdichtheid van 0,1 mA/mm2 of hoger bij een afzettingssnelheid van 15 micrometer/uur of meer;

f) "speicherprogrammierbare" Herstellungsausrüstung für die Bogenentladungs-Kathodenzerstäubungs-Beschichtung (cathodic arc deposition), die über ein Gitter aus Elektromagneten zur Steuerung des Auftreffpunkts des Lichtbogens auf der Kathode verfügt;
f". met opgeslagen programma bestuurde" productieapparatuur voor boogverdampen welke een net van gekoppelde elektromagneten omvat voor de besturing van de punt van de boogontlading op de kathode;

e) "speicherprogrammierbare" Herstellungsausrüstung für die Kathodenzerstäubungs-(Sputter-)Beschichtung, geeignet für Stromdichten von 0,1 mA/mm² oder höher bei einer Beschichtungsrate größer/gleich 15 µm/h;
e". met opgeslagen programma bestuurde" productieapparatuur voor sputteren, geschikt voor een stroomdichtheid van 0,1 mA/mm² of hoger bij een afzettingssnelheid van 15 micrometer/uur of meer;