Vertaling van "Chemische Beschichtung Gasphase " (Duits → Nederlands) :

TERMINOLOGIE

chemische Abscheidung aus der Dampfphase | chemische Abscheidung aus der Gasfphase | chemische Beschichtung aus der Gasphase | chemische Dampfabscheidung | chemisches Abscheiden aus der Gasphase | chemisches Aufdampfen | CVD [Abbr.]
chemisch opdampen | chemische dampafzetting | opdampen | CVD [Abbr.]

physikalische Beschichtung aus der Gasphase durch thermisches Verdampfen
termische opdamping

IN-CONTEXT TRANSLATIONS

alle Mengen jedes in Anhang I und gegebenenfalls Anhang II aufgeführten Stoffes, die er in der Union in Verkehr gebracht hat, wobei die in Verkehr gebrachten Mengen zur Verwendungen als Ausgangsstoff, für direkte Ausfuhren, zur Herstellung von Dosier-Aerosolen für die Verabreichung pharmazeutischer Wirkstoffe, für die Verwendung in Militärausrüstung und die Verwendung zum Ätzen von Halbleitermaterial oder zur Reinigung von Kammern für die chemische Beschichtung aus der Gasphase in der Halbleiterindustrie gesondert anzugeben sind.
de hoeveelheden van elke stof van de lijst in bijlage I en, indien van toepassing, bijlage II, die hij in de Unie op de markt heeft gebracht, met afzonderlijke specificatie van de hoeveelheden die op de markt zijn gebracht voor gebruik als grondstof, rechtstreekse uitvoer, vervaardiging van doseerinhalatoren voor de toediening van geneesmiddelen, gebruik in militaire apparatuur en gebruik bij het etsen van halfgeleidermateriaal of het reinigen van kamers voor chemische dampafzetting in de sector van de productie van halfgeleiders.

teilfluorierte Kohlenwasserstoffe, die von einem Hersteller oder Einführer direkt an ein Unternehmen geliefert werden, das sie zum Ätzen von Halbleitermaterial oder zur Reinigung von Kammern für die chemische Beschichtung aus der Gasphase in der Halbleiterindustrie verwendet.
fluorkoolwaterstoffen die rechtstreeks door een producent of invoerder worden geleverd aan een onderneming die deze gebruikt voor het etsen van halfgeleidermateriaal of het reinigen van kamers voor chemische dampafzetting in de sector fabricage van halfgeleiders.

(10) Fluorierte Treibhausgase, die zum Ätzen von Halbleitermaterial oder zur Reinigung von Kammern für die chemische Beschichtung aus der Gasphase in der Halbleiterindustrie in Verkehr gebracht werden, werden mit einer Kennzeichnung versehen, auf der angegeben ist, dass der Inhalt des Behälters nur zu diesem Zweck verwendet werden darf.
10. Gefluoreerde broeikasgassen die op de markt worden gebracht voor het etsen van halfgeleidermateriaal en het reinigen van kamers voor chemische dampafzetting in de sector fabricage van halfgeleiders moeten worden geëtiketteerd met een vermelding dat de inhoud van de houder uitsluitend voor dit doel mag worden gebruikt.

die Menge jedes in Anhang I und gegebenenfalls Anhang II aufgeführten Stoffes, die er in die Union eingeführt hat, unter Angabe der Hauptkategorien der Anwendungen, für die die Stoffe verwendet werden, wobei die in Verkehr gebrachten Mengen zur Zerstörung, für Verwendungen als Ausgangsstoff, für direkte Ausfuhren, zur Herstellung von Dosier-Aerosolen für die Verabreichung pharmazeutischer Wirkstoffe, zur Verwendung in Militärausrüstung und die Verwendung zum Ätzen von Halbleitermaterial oder zur Reinigung von Kammern für die chemische Beschichtung aus der Gasphase in der Halbleiterindustrie gesondert anzugeben sind.
de hoeveelheid van elke stof van de lijst in bijlage I en, indien van toepassing, bijlage II, die hij in de Unie heeft ingevoerd en geeft daarbij de belangrijkste categorieën toepassingen waarvoor de stof wordt gebruikt aan, met afzonderlijke specificatie van de hoeveelheden die op de markt zijn gebracht voor vernietiging, gebruik als grondstof, rechtstreekse uitvoer, herverpakking, vervaardiging van doseerinhalatoren voor de toediening van geneesmiddelen, gebruik in militaire apparatuur en gebruik bij het etsen van halfgeleidermateriaal of het reinigen van kamers voor chemische dampafzetting in de sector van de productie van halfgeleiders.

teilfluorierte Kohlenwasserstoffe, die von einem Hersteller oder Einführer direkt an ein Unternehmen geliefert werden, das sie zum Ätzen von Halbleitermaterial oder zur Reinigung von Kammern für die chemische Beschichtung aus der Gasphase in der Halbleiterindustrie verwendet;
fluorkoolwaterstoffen die rechtstreeks door een producent of invoerder worden geleverd aan een onderneming die deze gebruikt voor het etsen van halfgeleidermateriaal of het reinigen van kamers voor chemische dampafzetting in de sector fabricage van halfgeleiders;

die Menge jedes in Anhang I und gegebenenfalls Anhang II aufgeführten Stoffes, die er in die Union eingeführt hat, unter Angabe der Hauptkategorien der Anwendungen, für die die Stoffe verwendet werden, wobei die in Verkehr gebrachten Mengen zur Zerstörung, für Verwendungen als Ausgangsstoff, für direkte Ausfuhren, zur Herstellung von Dosier-Aerosolen für die Verabreichung pharmazeutischer Wirkstoffe, zur Verwendung in Militärausrüstung und die Verwendung zum Ätzen von Halbleitermaterial oder zur Reinigung von Kammern für die chemische Beschichtung aus der Gasphase in der Halbleiterindustrie gesondert anzugeben sind ;
de hoeveelheid van elke stof van de lijst in bijlage I en, indien van toepassing, bijlage II, die hij in de Unie heeft ingevoerd en geeft daarbij de belangrijkste categorieën toepassingen waarvoor de stof wordt gebruikt aan, met afzonderlijke specificatie van de hoeveelheden die op de markt zijn gebracht voor vernietiging, gebruik als grondstof, rechtstreekse uitvoer, herverpakking, vervaardiging van doseerinhalatoren voor de toediening van geneesmiddelen, gebruik in militaire apparatuur en gebruik bij het etsen van halfgeleidermateriaal of het reinigen van kamers voor chemische dampafzetting in de sector van de productie van halfgeleiders;

alle Mengen jedes in Anhang I und gegebenenfalls Anhang II aufgeführten Stoffes, die er in der Union in Verkehr gebracht hat, wobei die in Verkehr gebrachten Mengen zur Verwendungen als Ausgangsstoff, für direkte Ausfuhren, zur Herstellung von Dosier-Aerosolen für die Verabreichung pharmazeutischer Wirkstoffe, für die Verwendung in Militärausrüstung und die Verwendung zum Ätzen von Halbleitermaterial oder zur Reinigung von Kammern für die chemische Beschichtung aus der Gasphase in der Halbleiterindustrie gesondert anzugeben sind ;
de hoeveelheden van elke stof van de lijst in bijlage I en, indien van toepassing, bijlage II, die hij in de Unie op de markt heeft gebracht, met afzonderlijke specificatie van de hoeveelheden die op de markt zijn gebracht voor gebruik als grondstof, rechtstreekse uitvoer, vervaardiging van doseerinhalatoren voor de toediening van geneesmiddelen, gebruik in militaire apparatuur en gebruik bij het etsen van halfgeleidermateriaal of het reinigen van kamers voor chemische dampafzetting in de sector van de productie van halfgeleiders;

alle Mengen jedes in Anhang I und gegebenenfalls Anhang II aufgeführten Stoffes, die er in der Union in Verkehr gebracht hat, wobei die in Verkehr gebrachten Mengen zur Verwendungen als Ausgangsstoff, für direkte Ausfuhren, zur Herstellung von Dosier-Aerosolen für die Verabreichung pharmazeutischer Wirkstoffe, für die Verwendung in Militärausrüstung und die Verwendung zum Ätzen von Halbleitermaterial oder zur Reinigung von Kammern für die chemische Beschichtung aus der Gasphase in der Halbleiterindustrie gesondert anzugeben sind;
de hoeveelheden van elke stof van de lijst in bijlage I en, indien van toepassing, bijlage II, die hij in de Unie op de markt heeft gebracht, met afzonderlijke specificatie van de hoeveelheden die op de markt zijn gebracht voor gebruik als grondstof, rechtstreekse uitvoer, vervaardiging van doseerinhalatoren voor de toediening van geneesmiddelen, gebruik in militaire apparatuur en gebruik bij het etsen van halfgeleidermateriaal of het reinigen van kamers voor chemische dampafzetting in de sector van de productie van halfgeleiders;

Nummer 2B005 erfasst nicht Ausrüstung für chemische Beschichtung aus der Gasphase, Bogenentladungs-Kathodenzerstäubungs-Beschichtung, Kathodenzerstäubungs-Beschichtung, Ionenplattierung oder Ionenimplantation, besonders konstruiert für Schneidwerkzeuge oder für Werkzeuge zur spanenden Bearbeitung.
2B005 is niet van toepassing op apparatuur voor chemische afzetting uit de dampfase, voor boogverdamping, sputteren, «ion-plating», of ionenimplantatie die speciaal is ontworpen voor snij- of werktuigmachines.