Die Europäische Kommission hat eine von den Niederlanden geplante Beihilfe für die Mapper Lithography B.V. in Form von zinsgünstigen Darlehen über 15,6 Mio. EUR und eines Direktzuschusses von 5,7 Mio. EUR für die Entwicklung der Elektronenstrahllithografie (E-Beam) genehmigt.
De Europese Commissie heeft Nederland toestemming verleend om 15,6 miljoen EUR in de vorm van zachte leningen en een rechtstreekse subsidie van 5,7 miljoen EUR toe te kennen aan Mapper Lithography B.V. voor de ontwikkeling van "e-beam"-lithografie"".
